地下日 2010.12.08

　　请求人 中国迷信院金属钻研所

　　地点 辽宁省沈阳市沈河区文明路72号

　　本创造属于化学堆积技巧畛域，详细为一种制备铁镍磷化学镀层的新办法，该镀层能宽泛使用于(微)电子产业、宇航及通用工程。该办法经过酒石酸钾钠、柠檬酸三钠、2种具备─N(CH2COOH)2基团的无机夹杂增加剂及氨水组成的复合配位体系，管制溶液中游离Fe2+及Ni2+的浓度，克制镍复原速度的同时进步铁复原速度，从而进步镀层中的铁含量，该复合配位体系可与杂质离子配位，进步溶液可包容金属杂质离子的浓度，尤为实用于正在硅芯片及铜外表制备高铁含量的铁镍磷化学镀层。正在硅片外表所患上镀层各元素的品质分数为：Fe 0 ~ 50%(可控)，P 2% ~ 18%，余量为Ni。正在铜片外表所患上镀层各元素的品质分数为：Fe 0 ~ 90%(可控)，P 2% ~ 16%，余量为Ni。